鈷和鈷合金要比鎳和鎳合金難制備。鈷是一種非常硬的金屬，六方密排晶格結(jié)構(gòu)，由于機(jī)械孿晶而敏感于變形損傷。研磨和拋光速率比鎳、銅或鐵都要低。鈷和鈷合金的制備類似難熔金屬。與其它金屬和合金相比，雖然鈷是六方密排晶格結(jié)構(gòu)，但交叉偏振光不是非常有效的檢查方法。下面介紹的是鈷和鈷合金的制備方法。也許需要兩步的SiC砂紙將試樣磨平。如果切割表面質(zhì)量較好，就從320(P400)粒度砂紙開(kāi)始。鈷和鈷合金要比鋼難切不是因?yàn)橛捕雀?。侵蝕拋光沒(méi)有報(bào)道，但化學(xué)拋光已經(jīng)在機(jī)械拋光之后采用了。推薦了兩種化學(xué)拋光溶液:等量的醋酸和硝酸(溶劑)或40mL乳酸+30mL鹽酸+5mL硝酸(溶劑)。許多鈷基合金都可以不需要任何化學(xué)拋光，并且只采用上面所講的制備方法就獲得了理想的表面。對(duì)日常工作來(lái)說(shuō)，1μm金剛石拋光步驟就可以省掉了。使用拋光液時(shí)，拋光布的選擇有哪些要點(diǎn)？上海拋光液售價(jià)

   鎳的金相制樣制鎳和鎳合金是面心立方晶格結(jié)構(gòu)，制備方法基本上和奧氏體不銹鋼一樣。純鎳比鎳合金要難制備。Ni-Fe磁性合金，要制備無(wú)劃痕的表面非常困難，除非采用震動(dòng)拋光。Monel(Ni-Cu)合金和高抗蝕(Ni-Cr-Fe)合金要比鎳基高溫合金難制備多了。固溶退火鎳基高溫合金要比沉淀硬化鎳基高溫合金難制備。下面介紹的制備程序非常適合于鎳基高溫合金(Fe-Ni基高溫合金)和高抗蝕Ni-Cr-Fe合金，對(duì)純鎳、Ni-Cu和Ni-Fe合金，建議使用五步制備程序，如下所述。用240(P280)或320(P400)粒度的SiC砂紙，具體通常對(duì)這些合金，不用侵蝕拋光劑消除拋光劃痕或殘留缺陷。如果問(wèn)題存在且很難獲得理想的無(wú)劃痕或和變形缺陷的表面，一個(gè)與拋光步驟相同研磨介質(zhì)的短時(shí)間的震動(dòng)拋光將有很大幫助。氧化鋁配合金相拋光布阻尼布對(duì)較純的鎳的效果要比硅膠好的多。上海國(guó)內(nèi)拋光液陶瓷、玻璃等脆性材料金相拋光時(shí)，如何選擇合適的拋光液？

   硅對(duì)硅膠的化學(xué)機(jī)械拋光反應(yīng)良好，但與氧化鋁的反應(yīng)較差。實(shí)例證明，氧化鋁懸浮液可以用于樣品的終拋光，這就又返回到以前提到的試樣制備理論了。氧化鋁懸浮液運(yùn)用示例:當(dāng)硅模與鉛框材料，例如鍍鎳的銅，鉛框和模具材料被制備時(shí)。此時(shí)，我們不用考慮硅的表面光潔度，相反我們要確保鎳沒(méi)有出現(xiàn)掛灰以利于辨別鉛框材料當(dāng)制備硅設(shè)備以檢查金屬化和薄膜電路時(shí)，制備技術(shù)應(yīng)與前面講的一樣。需要再次重申的是，終拋光劑應(yīng)根據(jù)要檢查的目的選擇。例如，鋁電路與硅膠的化學(xué)機(jī)械拋光反應(yīng)良好，但鋁電路周?chē)拟?鎢與硅膠的化學(xué)機(jī)械拋光反應(yīng)就較差。因此，硅膠導(dǎo)致難熔金屬出現(xiàn)浮雕從而影響拋光的質(zhì)量。如果出現(xiàn)倒圓，那將使界面分析變得非常困難。為了減少這些影響，作為替代可以用特別細(xì)的金剛石懸浮液進(jìn)行終拋光。

   α氧化鋁()和γ氧化鋁()混合液(或懸浮液)，通常用于的拋光，一般按照正常使用順序或異乎尋常地順序。氧化鋁懸浮液是利用凝膠生產(chǎn)工藝對(duì)氧化鋁進(jìn)行加工，這比傳統(tǒng)煅燒方法加工的氧化鋁獲得的表面光潔度要好的多。煅燒方法加工的氧化鋁顆粒常表現(xiàn)出一定程度的聚集成團(tuán)現(xiàn)象，可將其解離，而凝膠生產(chǎn)工藝的氧化鋁就沒(méi)有這些問(wèn)題。硅膠懸浮液(基本pH約)是一種較新的拋光介質(zhì)，該方法結(jié)合化學(xué)和機(jī)械過(guò)程的雙重作用，對(duì)難制備的材料效果較好。震動(dòng)拋光機(jī)，經(jīng)常用于終拋光步驟，特別適合那些難制備的材料，圖象分析研究目的的試樣或要求較高質(zhì)量的出版物的試樣制備。傳統(tǒng)的水基的氧化鋁粉和混合液，例如氧化鋁粉和懸浮液被用于中絨拋光布上的的拋光。拋光液生產(chǎn)基地、銷(xiāo)售區(qū)域、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手及市場(chǎng)地位。

   拋光是制備試樣的步驟或中間步驟，以得到一個(gè)平整無(wú)劃痕無(wú)變形的鏡面。這樣的表面是觀察真實(shí)顯微組織的基礎(chǔ)以便隨后的金相解釋，包括定量定性。拋光技術(shù)不應(yīng)引入外來(lái)組織，例如干擾金屬，坑洞，夾雜脫出，彗星拖尾，著色或浮雕(不同相的高度不同或孔和組織高度不同。）初的粗拋光之后，可加上一步，即用1微米金剛石懸浮拋光液在無(wú)絨或短絨拋光布或中絨拋光布拋光。在拋光的過(guò)程中，可以添加適量潤(rùn)滑液以預(yù)防過(guò)熱或表面變形。中間步驟的拋光應(yīng)充分徹底，這樣才可能減少終拋光時(shí)間。手工拋光，通常是在旋轉(zhuǎn)的輪上進(jìn)行，試樣以與磨盤(pán)相反的旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行相對(duì)圓周運(yùn)動(dòng)，從而磨削拋光。賦耘的懸浮液就是做到納米級(jí)粉碎，讓金相制樣達(dá)到一個(gè)好的效果。究了聚丙烯酸銨(NH4PAA)對(duì)納米SiO2粉體表面電動(dòng)特性及其懸浮液穩(wěn)定性的影響.結(jié)果表明,NH4PAA在SiO2表面吸附,提高了顆粒間的排斥勢(shì)能,改善了懸浮液的穩(wěn)定性。拋光分分為機(jī)械拋光、電解拋光、化學(xué)拋光，各有各的優(yōu)勢(shì)，各有各的用途，選擇合適的就能少走彎路。陶瓷材料適用的拋光液；上海好的拋光液

拋光液的懸浮穩(wěn)定性受哪些因素影響？如何提高？上海拋光液售價(jià)

硅膠起初用于單晶硅晶體拋光，那是因?yàn)樗械娜毕荼仨氃谏L(zhǎng)前消除。硅膠是沒(méi)有固定形狀的，溶液基本的PH值約9.5。硅的顆粒，實(shí)際上非常接近球形，由于化學(xué)和機(jī)械過(guò)程的雙重作用，所以其相應(yīng)的拋光速度較慢。用硅膠研磨介質(zhì)比其它研磨介質(zhì)更容易獲得沒(méi)有缺陷的表面( 終拋光)。腐蝕劑與硅膠拋光后的表面有不同反應(yīng)。例如，一種腐蝕劑對(duì)氧化鋁拋光后的表面產(chǎn)生了晶粒反差腐蝕，也許對(duì)硅膠拋光后的表面就變成顯示晶粒和孿晶晶界的腐蝕。對(duì)于日常檢查，較細(xì)的金剛石研磨劑，1微米金剛石懸浮拋光液就足夠 制備使用了。傳統(tǒng)的水基的氧化鋁粉和混合液，例如氧化鋁粉和懸浮液被用于中絨拋光布上的 的拋光。上海拋光液售價(jià)